Описание

Современное оборудование включает в себя РФЭС, УФЭС, ФЭСУР, систему тонкопленочного осаждения in-situ и связанное оборудование. Система является фотоэмиссионным спектрометром, состоящим из следующих компонентов: основной камеры анализа, камеры подготовки образца, камеры импульсного лазерного осаждения, системы загрузки образцов и системы передачи проб. Она также включает необходимое СВВ оборудование и структуру поддержки, а также источники питания, управляющую электронику и программное обеспечение для полной функциональности спектрометра.

​

• Многофункциональная μ-металлическая аналитическая камера объединяет различные методы измерения. Диапазон базового давления составляет 10E-11 мбар. Камера оснащена 5-осевым СВВ-манипулятором с охлаждением LHe (закрытый цикл) для держателя образца вида Flag, полусферическим анализатором и всем необходимым оборудованием для анализа.

• Камера осаждения, подготовленная для возможности нанесения слоев металлов, полупроводников и диэлектриков PLD-методом. Манипулятор позволяет внедрять слоистые структуры, состоящие из различных материалов (до 6 целей).

• Двухуровневая подготовительная камера обеспечивает способность осаждать слои и слоистые структуры, состоящие из нескольких разных компонент.

• Распределительная камера для передачи держателей образцов.

• Камера загрузки, подготовленная для работы с порошками, с внутренней системой отжига.

• Камера хранения для 6 держателей образцов

​